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第3667章 193浸润式微影技术

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道:“如果选择跟进这条路,对于其余所有的企业来说都是一条最愚蠢决定,这等于是砸进去几十亿美元,制造出来一种就算是能够研制成功,但是很有可能就像之前的PAS2000,2500那种有产品没市场的商品,这么大的损失,这些股东除非疯了才会同意。要么也可以,Sematech(m国半导体制造技术联盟)中的m国机构,真金白银的掏出来这几十亿,想要EUV-LLC联盟投资,根本就没有任何的可能。”

“也就是说Sematech美方非企业组织,对157nm纯氮气干式技术感兴趣?”

赵长安说道:“这和他们花这么大的力气,甚至把硅谷集团(SVG)也出售给ASML的初衷不符。”

“MIT(麻省理工学院林肯实验室),得州大学,m国国防部、能源部、国家实验室、国家科学委员会、国家标准及技术院,都一直在游说ASML,进行这个方向的技术推进。”

萧扬明说道:“第二个方向就是进行157nm的液体介质浸没式光刻,这个方向的风险性太大,几乎等于要把原来已经成熟的193nm干式架构全部推到重新架构,这个方案虽然也有一定的呼声,不过并不大,至少在目前技术水平下,还有着太多的障碍没法攻克。而且无论是时间的跨度还是海量的投资,都能让人窒息。然而几乎所有真正懂得步进机原理的都知道,157nm进程早晚都要面对,即使现在规避,可等到摩尔定律到了时间压缩的极限,还是最终需要重启。”

“在这两种方案的对比下,Sematech美方非企业组织显然觉得,ASML可以和Nikon和Canon进行同质化研发,这样至少可以保持住ASML在光刻机领域的世界前三强的位置,制约东洋。”

在90年ASML推出PAS5500之前,ASML在全球光刻机领域的市场份额,几乎可以忽略不提,而且自从成立起就一直处于亏损状态,整整亏损了六年。

这里面幸亏有飞利浦持股27.4%的台积电的订单,不然ASML生产出来的PAS步进机,根本就没有人买。

而从PAS5500开始,只是靠着这一款产品,ASML就一路挤掉全球诸多的光刻机企业,成为全球第三。

也正是凭借着PAS5500的亮眼表现,让欧洲和老m突然对有可能超过Nikon和Canon,成为全球光刻机霸主,充满了一种热血的冲动和渴望,不愿意在这个领域受制于人。

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