光刻胶我们也可以这么办，当然，也可以考虑在光刻胶上再喷一道绝水薄膜，没有试过，怎么知道不行！”
“我们试过很多种办法！”
“那就再试，试到解决为止……”
王岸然毫不客气，作为投资人，他是来发布命令的，而不是跟你讨价还价。
浸没式光刻机肯定是未来的方向，而且波长越长，通过折射后，缩微的效果越明显。
况且，光刻机的波长并能完全决定芯片的制程，通过特定的曝光方式也可以提高制程。
事实证明，193纳米的紫光光源，也可以进行65纳米芯片工艺的生产。
以前世对半导体芯片制造的理解，浸没式光刻，多重曝光方式能够取得进步的话，完全可以将这台东芝的二手货，改造成一台可以生产800纳米工艺的芯片加工厂，甚至更为先进的320纳米工艺也不是不可能。
只不过芯片生产的效率，肯定会差很多，但至少说明一点，我们掌握了这项技术。
而且通过这一过程，华芯科技还可以积累这部分的专利，在ASML前面设置一套专利壁垒。
至于这套专利有什么用，王岸然无法评估，按照他的估计，到那个时候，美利坚政府应该也会插手吧！
还有五年的时间，王岸然在纸上写下磁悬浮双工作台，浸没式光刻系统，两大未来发展方向。
这次他不打算，光靠国内研究机构的力量。
“该到寻找外援的时候了！”
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